Primo HD-RIE?是中微于2015年推出的新一代電介質刻蝕產品，是在Primo SSC AD-RIETM設計基礎上實現的具有六個單反應臺腔體的系統，定位于為中高深寬比刻蝕提供綜合解決方案。該設備具有以下新特性：更高的同步脈沖射頻功率、高功率高溫靜電托盤、氣體脈沖、多區氣體調節、可冷卻聚焦環工藝組件和更穩定的上電極溫度控制等。Primo HD-RIE在3D-NAND及DRAM中高深寬比溝槽及深孔刻蝕上表現優異，在一些關鍵制程上已實現量產。